Сибирский государственный университет информации и телекоммуникаций
Лабораторная работа
Тема:
Модели полупроводниковых диодов
Новосибирск 2008
Содержание
Часть №1
1. Исследование зависимости времени жизни от концентрации легирующей примеси
2. Исследование свойств диффузионной длины неосновных носителей
3. Исследование модели тока насыщения IS идеального диода в модели Шокли
4. Исследование модели контактной разности потенциалов
5. Исследование модели толщины ОПЗ
Часть №2
1. Исследование влияния процессов генерации-рекомбинации в ОПЗ на вид ВАХ для PSPICE модели диода
2. Исследование влияния температуры и концентрации примесей в База на вид ВАХ для PSPICE модели идеального диода
3. Исследование влияние процессов высокого уровня инжекции на вид ВАХ для PSPICE модели диода
4. Исследование влияние процессов высокого уровня инжекции на вид ВАХ для PSPICE модели диода
Часть №3
1. Исследования влияние концентрации в базе и температуры на значение равновесной барьерной емкости Cj0 (при U=0
2. Исследование ВФХ барьерной емкости в зависимости от ее входных параметров
3. Исследование ВФХ диффузионной емкости в зависимости от ее входных параметров
4. Исследование ВФХ барьерной и диффузионной емкости на совмещенном графике
Лабораторная работа №3
Тема: «МОДЕЛИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ДИОДОВ»
Цель работы: Изучить основные физические модели p-n переходов, находящихся в равновесном состоянии и при электрическом смещении, а так же модели ВАХ диодов, соответствующие различным процессам (генерация-рекомбинация в ОПЗ, высокий уровень инжекции, явление пробоя) в зависимости от учитываемых параметров в схемотехнической модели диода для программы PSPICE в режиме работы на постоянном токе (DC режим).
Исходные данные:
ü п/п – Ge
ü NЭ = 1×1018 см-3; NБ = 2×1015 см-3.
ü LБ = 10мин; LЭ = 2мин; W = 500мин; H = 200мин.
ü Sзахв = 2×10-16 см-2.
ü Переход p-n.
Часть №1
Uобр = -50В; Т = 300°К
Концентрационные зависимости подвижностей основных и неосновных носителей:
Эмиттер (Р) База (n) N/5 N 5N N/5 N 5N
Конц. см-3
2×1017
1×1018
5×1018
Конц. см-3
4×1014
2×1015
1×1016
mосн см2/В×с
700 380 160
mосн см2/В×с
4500 4100 3800
mнеосн см2/В×с
2700 2000 1200
mнеосн см2/В×с
2000 1900 1500
1. Исследование зависимости времени жизни от концентрации легирующей примеси
Для Ge модель времени жизни носителей описывается формулой Шокли-Рида-Холла:
где Еt – локальный уровень
Еi – уровень Ферми собственного п/п
Nt – концентрация ловушек
s - сечение захвата.
Эмиттер База Т°,К
tнеосн, сек
N/5 N 5N N/5 N 5N
2×1017
1×1018
5×1018
4×1014
2×1015
1×1016
300
2,5×10-9
5×10-10
1×10-10
1,37×10-6
2,55×10-7
5,02×10-8
400
2,52×10-9
5,01×10-10
1×10-10
2,46×10-6
3,99×10-7
5,74×10-8
500
2,68×10-9
5,07×10-10
1×10-10
2,5×10-6
4,98×10-7
9,11×10-8
Т = 300°К; NЭ = 1×1018 см-3; NБ = 2×1015 см-3.
NЭ
NБ
Ge
tнеосн, сек
5×10-10
2,55×10-7
Si
5×10-10
2,54×10-7
При увеличение сечение захвата на 1% (при фиксированных N и Т=300°К) время жизни неосновных носителей в базе уменьшается на 1%.
Время жизни определяется количеством и типом рекомбинации ловушек. ............
